【IP ePlat】特許出願非公開制度の解説動画を公開しました！

2024/01/26

公にすることにより国家及び国民の安全を損なう事態を生ずるおそれが大きい発明が記載されている特許出願につき、出願公開等の手続を留保するとともに、 その間、必要な情報保全措置を講ずることで、特許手続を通じた機微な技術の公開や情報流出を防止する、特許出願非公開制度が令和6年5月1日に施行されます。

本動画では、制度概要、手続の流れ、外国出願に関する留意事項等について解説しています。
特に、特定技術分野に属する発明については、日本へ出願せずに外国出願（PCT出願を含む）をすることが禁止される場合がある等、留意が必要です。
制度施行に伴い、新設される手続もありますので、制度内容についてぜひご確認ください。

＊＊動画の視聴はこちらから＊＊
https://ipeplat.inpit.go.jp/Elearning/View/Course/P_studyview2.aspx?JoqiTZZ2DWE7GOgNW1clfvUgtDMDkRqr7SDF3mot1c0xYO2J82ELdQ%3d%3d

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